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Bomba anti FF-200/1200N de Turbomolecular de la corrosión que bombea el N2 1200L/S

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Bomba de Turbomolecular (41)

Ion Vacuum Pump (10)

Válvula de puerta del vacío (32)

Válvula de ángulo del vacío (17)

Detector de escape del helio (6)

Bomba de tornillo seca (6)

Microscopio electrónico de exploración (5)

Vane Pump rotatoria (20)

Regulador de la bomba de vacío (6)

Estación de bomba de Turbo (10)

Indicador de la medida del vacío (10)

Certificación

China KYKY TECHNOLOGY CO., LTD. certificaciones

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Bomba anti FF-200/1200N de Turbomolecular de la corrosión que bombea el N2 1200L/S

Ampliación de imagen : Bomba anti FF-200/1200N de Turbomolecular de la corrosión que bombea el N2 1200L/S

Datos del producto:

Lugar de origen:	China
Nombre de la marca:	KYKY
Certificación:	CE
Número de modelo:	FF-200/1200N

Pago y Envío Términos:

Cantidad de orden mínima:	1
Precio:	upon request
Detalles de empaquetado:	Caja de madera para el envío de ultramar
Tiempo de entrega:	5-8 semanas
Condiciones de pago:	T/T

Contacto

Descripción detallada del producto

Reborde:

DN200 CF/ISO-K

Tipo:

Corrosivo anti

enfriamiento:

Velocidad de bombeo:

1200L/s

Alta luz:

bomba de vacío turbomolecular

bomba de vacío de turbo

Bomba Turbo Molecular, FF-200 / 1200N, Anticorrosión, Bombeo 1200L / s N2

Las bombas turbo de la serie N se innovan sobre la base de la bomba turbo convencional. La mejora principal es el recubrimiento de níquel de los componentes principales y la instalación del dispositivo de purga, lo que hace que las bombas de la serie N sean adecuadas para aplicaciones en entornos corrosivos.

Ventajas :

Debido a la característica anticorrosión, la bomba tiene un rendimiento estable y una larga vida útil.

En Estructura, es simple para el mantenimiento y conveniente para la operación.

Al tratarse de un tratamiento de superficie corrosivo, el niquelado hace que la bomba esté disponible en entornos de trabajo difíciles (alta temperatura, polvo, corrosión fuerte, etc.)

Solicitud:

1. Detección de fugas industriales, 2. PVD, 3. CVD, 4. Implantación de iones, 5. Fabricación de componentes electrónicos al vacío, 6. Vidrio de baja emisividad, 7. Vidrio ITO, 8. Recubrimiento óptico, 9. Células solares, 10. soldadura por haz de electrones, 11. hornos de vacío

Presupuesto:

Brida (In)	DN200 CF / ISO-K
Brida (Fuera) KF	DN40
Velocidad de bombeo (L / s)	N2: 1200
	Él: 750
	H2: 480
	Ar: 1160
Índice de compresión	N2: 10 ⁹
	Él: 10 ⁴
	H2: 10 ³
	Ar: 10 ⁹
Presión final (Pa)	CF: 6 × 10 ^-7
Presión final (Pa)	ISO-K: 6 × 10 ^-6
Max. Presión continua de vacío frontal (Pa)	400
Max. Presión de pre-vacío	N2: 500
Gas a lo largo (sccm)	N2: 2300
	Él: 1700
	H2: 1350
	Ar: 870
Velocidad de rotación (rpm)	24000
Tiempo de ejecución (min)	≤9
Tipo de enfriamiento, Estándar	Agua
Consumo de agua de refrigeración (L / min)	≥1
Temperatura del agua de enfriamiento (℃)	≤25
Conexión de alimentación: Voltaje (VCA)	220 ± 22
Consumo máximo de energía (W)	≤500
Modelo de controlador	TCDP-II con cable de 2,5 metet